Sviluppo di apparecchiature per la pulizia dei wafer
Il processo di produzione dei wafer prevede diverse procedure complesse e materiali chimici. Residui di sostanze chimiche, particelle e materiali metallici si trovano comunemente sulla superficie dei wafer dopo le diverse fasi di lavorazione. Se non vengono puliti tempestivamente, questi residui possono accumularsi nel tempo, compromettendo la qualità del prodotto finale. Pertanto, le apparecchiature di pulizia sono diventate un elemento cruciale...