Entwicklung von Wafer-Reinigungsanlagen
Der Herstellungsprozess von Wafern umfasst verschiedene komplizierte Verfahren und chemische Stoffe. Nach den verschiedenen Verarbeitungsschritten finden sich auf der Oberfläche der Wafer häufig Rückstände von chemischen Substanzen, Partikeln und Metallmaterialien. Wenn sie nicht umgehend gereinigt werden, können sich diese Rückstände mit der Zeit ansammeln und die Qualität des Endprodukts beeinträchtigen. Daher ist die Reinigungsausrüstung zu einem entscheidenden...